iLItho光刻仿真与掩膜优化软件

iLitho 是面向半导体、平板显示领域的国产化自主可控光刻仿真与版图优化 EDA 工具，专为行业从业者、科研人员及高校师生打造。软件支持投影式、接近式光刻与曝光显影严格物理仿真，可开展工艺窗口、反射率、多参数循环及光刻参数校准等分析。具备版图查看、量测、抽取、布尔运算等图形操作能力，提供基于规则与模型的 OPC、光源—掩模联合优化（SMO）等掩模优化功能。凭借快速、精准、易用的优势，以仿真 + 优化方案大幅缩短研发周期、降低成本，可按需升级迭代，满足先进光刻研发与工艺优化需求。

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iCDMet纳米级线宽量测与粗糙度分析软件

iCDMet 是面向企业、高校及研究机构的高精度自动化 CD 与粗糙度计量软件，专注微米至纳米级微观结构精准测量与表征。软件支持线宽、间隙、直径测量，可分析线条 / 孔等其他结构的边缘粗糙度、宽度粗糙度，提供频域对比、功率谱密度（PSD）计算与拟合。搭载像素阈值、最大斜率、相关分析等多种边缘识别算法，支持批量处理、孔阵列与 2D 阵列分析。可按需定制缺陷定位、GDS 导出、圆形度分析等功能，全面满足先进研发与精密检测需求。

下载：icdmet介绍0.2.1.pdf

iOVL套刻对准分析软件

iOVL 是面向集成电路先进光刻工艺研发的套刻误差分析、建模与补偿软件，可对接套刻量测设备与光刻机，构建 “数据解析 — 模型计算 — 校正反馈” 闭环。软件支持 Alignment/Overlay 数据导入、Lot 分组与多维度筛选，提供产品树管理、晶圆参数配置、套刻模型定义等功能。具备晶圆级与场内高阶模型计算、异步批量处理、Wafer/Field 矢量可视化、时序趋势分析、多快照对比等能力，可实现套刻误差精准分析、工艺监控与异常识别。同时支持 TIS 校正、结果导出与细粒度权限管理，是光刻工艺优化、对准精度提升与良率保障的核心工具。

下载：iovl介绍2.1.0.pdf

iDepEtch刻蚀沉积仿真软件

iDepEtch 软件集成Etch 刻蚀与PECVD 沉积两大核心工艺仿真模块，面向半导体与微纳加工提供三维工艺数值模拟与优化。Etch 模块支持三维衬底结构处理，可精准模拟刻蚀深度、侧壁角、刻蚀偏差与轮廓演变，输出三维形貌与工艺数据。PECVD 模块支持规则 / 非规则衬底建模，可配置 SiNx/SiON 材料与沉积参数，实现薄膜厚度、沉积速率仿真及 2D/3D 形貌输出。软件支持工艺流程串联，可正向预测结果、分析缺陷、替代多轮实物实验，大幅降低研发成本与周期，为工艺研发与参数优化提供高效可靠工具。

下载：idepetch介绍1.0.0.pdf

OPC服务

利用商业软件和自研软件，为各单位提供版图opc服务。

定制化解决方案

根据客户具体需求，提供量身定制的半导体制造环节各类解决方案，包括软件定制、工艺优化等服务。