我司成功承办第五届国际光刻技术研讨会（IWAPS-2021）

2021年12月12-13日，第五届国际光刻技术研讨会在广州佛山顺利举办，彼时国内疫情防控处于常态化阶段，疫情形势严峻复杂，各地严格落实“外防输入、内防反弹”总策略。本次研讨会由南京诚芯集成电路技术研究院牵头承办，在严格落实疫情防控各项要求的前提下，汇聚了国内外光刻领域顶尖专家、企业代表及科研学者，围绕先进光刻技术发展、产业应用突破等核心议题展开深入交流，助力集成电路产业高质量发展。

作为国内光刻领域的重要学术交流平台，本次研讨会紧扣行业发展趋势，聚焦7nm及以下节点计算光刻、EUV技术应用、光源掩模协同优化等关键方向，创新采用“线下为主、线上为辅”的举办模式，严格执行参会人员体温检测、健康码查验、座位间隔1米以上、会场定时消毒等防控措施，设置主旨报告、专题研讨等环节，分享前沿技术成果与实践经验，为行业技术创新搭建了安全高效的沟通桥梁。

南京诚芯作为承办方，充分发挥自身在光刻领域的技术积淀与行业影响力，兼顾疫情防控与会议质量，提前制定详细防控方案，筹备充足防疫物资，严格排查参会人员旅居史与健康状况，精心统筹各项筹备工作，全力保障研讨会安全、有序落幕。此次承办研讨会，既是对公司技术实力与行业地位的肯定，也为公司搭建了学习交流的平台。未来，南京诚芯将持续深耕光刻技术研发，推动技术成果转化，为我国集成电路产业自主可控贡献力量。