聚力光刻前沿，共探产业未来-我司圆满承办第八届国际光刻技术研讨会（IWAPS 2024）

2024 年 10 月 15—16 日，第八届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2024） 在浙江嘉兴南湖宾馆隆重举办。本次大会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会、国际光学工程学会（SPIE）主办，中国科学院微电子研究所与南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，汇聚全球近 600 位行业专家、高校学者及产业链精英参会。     

研讨会聚焦先进光刻工艺、计算光刻、EDA 版图优化、下一代光刻技术、光刻材料与设备等核心议题，通过特邀报告、专题研讨与技术交流等形式，共享前沿成果、共商国产化创新路径中共南湖区委南湖区政府。作为承办方，南京诚芯全程统筹会务组织，确保大会高效有序开展，充分彰显了公司的科研硬实力与行业号召力。

此次承办国际顶级光刻学术盛会，是南京诚芯在高端产业交流领域的重要里程碑，进一步深化了与全球顶尖机构的协同创新，提升了在光刻及 EDA 领域的品牌影响力与行业话语权中共南湖区委南湖区政府。未来，南京诚芯将持续深耕光刻 EDA 核心技术攻关，搭建高水平国际交流平台，加速技术成果产业化，全力助推我国集成电路光刻产业链自主可控与高质量发展。