我司iLitho光刻仿真与版图优化软件顺利通过国家专利密集型产品备案
南京诚芯集成电路研究院自主研发的iLitho 光刻仿真与版图优化工具，顺利通过国家专利密集型产品备案，获国家层面权威认可。
该工具聚焦先进半导体光刻工艺，具备高精度光刻仿真、智能版图优化等核心能力，布局多项核心发明专利，专利壁垒扎实、技术创新性突出，是集成电路 EDA 领域关键自研工具。
此次备案成功，将为公司科技项目申报、资质认定、市场拓展及知识产权保护提供有力加持。未来，研究院将持续深耕光刻 EDA 核心技术，加快成果产业化，助力集成电路产业自主可控高质量发展。
