我司承办第四届国际光刻技术研讨会（IWAPS-2020）成都圆满收官

2020年11月6日，由南京诚芯集成电路技术研究院协办承办的第四届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2020）在成都圆满落幕。本次盛会汇聚全球光刻领域精英，搭建高端交流平台，为期两天的研讨圆满完成各项议程，在行业内留下深刻影响，全体参会者共赴“来年再聚”的约定。

本次研讨会聚焦光刻技术前沿与产业应用，吸引了来自中国、美国、德国、日本等国家和地区的500余名专家学者、企业精英参会，ASML、Nikon、Canon等行业龙头企业代表现场分享前沿技术与解决方案，涵盖EUV、计算光刻、工艺优化等核心领域，为全球光刻产业发展建言献策。

作为本次研讨会的承办方之一，南京诚芯依托自身专业能力与产业资源，全程参与会议策划、组织执行与服务保障工作，统筹嘉宾邀约、议程衔接、线上线下联动等事宜，全力保障研讨会高效有序举办，充分展现了公司在光刻领域的专业素养与行业影响力。

落幕不是终点，而是新的起点。本次研讨会的圆满举办，进一步搭建了全球光刻领域“产学研用”协同交流的桥梁，也为南京诚芯链接国际创新资源、深化行业合作奠定了坚实基础。与会嘉宾、企业代表与南京诚芯共同约定，携手深耕光刻技术领域，期待来年再聚，共话技术突破、共促产业升级，续写光刻产业发展新篇章。