光刻聚智，芯绘未来-南京诚芯承办第三届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2019）

2019年10月17-18日，第三届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2019）在南京成功举办，本次盛会由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会联合主办，南京诚芯集成电路研究院协同中国科学院微电子研究所、南京市浦口高新区等单位共同承办，吸引来自中国、美国、德国、日本等全球多个国家和地区的400余名专家学者、企业精英齐聚一堂，共话光刻技术前沿、共促产业协同发展。

作为国内首个国际高端光刻技术研讨会，第三届国际先进光刻技术研讨会延续往届高规格、高水准，以光刻技术创新与产业应用为核心，聚焦极紫外光刻（EUV）、计算光刻、量测及缺陷检测、设计工艺联合优化等前沿方向，为海内外半导体工业界、学术界搭建了高效的技术交流与成果共享平台。会上，Intel、IBM、Mentor等知名企业专家发表特邀报告，深入解析光刻领域先进节点的技术手段与解决方案，涵盖先进节点的计算光刻技术、设备、材料等核心内容。

作为本次研讨会的承办单位之一，南京诚芯凭借刚成立不久积累的产业资源与专业能力，全程深度参与会议策划、组织执行与服务保障工作。公司依托自身在集成电路领域的初步布局，积极联动各方资源，统筹嘉宾邀约、议程设计、现场服务等各项事宜，全力保障研讨会高效、有序举办，充分展现了南京诚芯在光刻技术领域的专业素养与组织能力，也彰显了其助力区域集成电路产业发展的责任担当。

此次承办第三届国际先进光刻技术研讨会，不仅为南京诚芯搭建了链接全球光刻领域创新资源的桥梁，提升了公司在行业内的知名度与影响力，也助力南京浦口区进一步集聚集成电路产业资源，推动区域光刻技术交流与产业升级。未来，南京诚芯将以此次承办为契机，持续深耕光刻技术领域，加强国际技术交流与合作，助力我国集成电路产业突破核心技术瓶颈，为产业高质量发展注入强劲动能。