聚力十载，芯光共耀 -我司连续承办第十届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2026），2026 年 9 月深圳启幕

第十届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2026）招商正式启动，诚邀全球学界与产业界共赴盛会、投稿演讲

2026 年 4 月 15 日，南京讯 —— 全球光刻领域备受瞩目的年度盛会再启新章。南京诚芯 正式确认连续承办第十届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2026），这是公司继成功承办往届后，再次以专业实力与平台影响力承接这一顶级国际学术产业盛会。

IWAPS 2026 定于2026 年 9 月 10-11 日在深圳国际会展中心（宝安） 举办，与 2026 国际集成电路创新博览会（IICIE）深度联动，以 “芯启未来・光刻焕新” 为主题，聚焦 EUV 与下一代光刻、计算光刻与 DTCO、先进光刻材料与装备、计量检测与掩模技术、新型成像方案等前沿方向，搭建全球光刻领域 “产学研用” 深度融合的高端交流平台。

国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）自 2017 年首届举办以来，已成功举办九届，始终以 “推动光刻技术自主创新、链接全球产业资源、培育核心技术人才” 为初心。历经十载积淀，IWAPS 已发展成为覆盖光刻全产业链的国际化顶级交流平台，每届汇聚全球 700 余位顶尖专家、学者及产业精英，累计推动计算光刻、DTCO、国产光刻设备与材料等关键技术加速落地与验证迭代，成为连接中国与世界光刻创新体系的不可或缺桥梁。

作为 IWAPS 的核心承办单位，南京诚芯凭借深厚的技术积淀、完善的产业资源与成熟的会务体系，全程深度参与大会策划、组织执行与服务保障，确保每一届盛会高效、有序、专业落地。此次连续第十届承办，是行业对公司技术能力、组织水平与产业影响力的高度认可。南京诚芯以 “光刻人的世界” 为平台持续输出前沿资讯与技术资源，已成为国内光刻领域产学研协同的核心枢纽。

IWAPS 2026 面向全球学术界与产业界广发邀请，诚邀国内外高校、科研机构的专家学者，光刻设备、材料、工艺、EDA 等领域企业的技术负责人，以及投资机构、行业协会同仁莅临指导，共话光刻技术突破路径、共谋产业发展新蓝图。

【重要征集】现正式启动学术论文与产业报告征集，欢迎围绕光刻全产业链关键技术与应用痛点投稿，优秀稿件将入选大会专题报告、墙报展示，并由大会官方出版论文集。

📌 投稿截止日期：2026 年 6 月 30 日

📌 投稿通道：请登录 IWAPS 2026 官方网站（www.iwaps.org）或关注官方公众号 “光刻人的世界” 获取详情

南京诚芯相关负责人表示：“连续十年承办 IWAPS，是诚芯的责任更是使命。我们将持续发挥平台优势，深度链接全球光刻创新资源，强化技术服务与产业赋能能力，助力突破光刻关键核心技术，为我国集成电路产业自主可控贡献核心力量。”

十载同心，光刻向新。2026 年 9 月 10-11 日，深圳国际会展中心，期待与全球同仁共赴盛会，以技术之光共筑芯未来！

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